科研用小型真空钨丝烧结炉

科研用小型真空钨丝烧结炉 设备用途：

本系列产品广泛应用于无机材料（如陶瓷密封件、氧化锆、氧化锌、二氧化铝等）、及金属材料（如硬质合金）在真空或保护气氛中烧结制备，也可用于对烧结环境有洁净要求的材料进行热处理。同时适用于大专院校、科研单位进行中试批量生产使用。

科研用小型真空钨丝烧结炉 设备参数：

1.设备总功率：25Kw；

2.电源电压：单相220V,50Hz

3.真空度：优于5×10E-4Pa

4.工作区尺寸：¢80*80

5.设计温度：2300℃

6.使用温度：0-2200℃

7.控温精度：±1℃

8.测温方式：热电偶自动进出+红外仪测温

8.真空泵组：飞越机械泵 +分子泵+管路阀门

9：真空腔尺寸：¢350×350

10：控制方式：PLC+触摸屏

科研用小型真空钨丝烧结炉设备配置

1.高真空腔体         1套

2.钨网发热体及金属隔热屏 1套

3.测温装置           1套

4.大电流变压器       1台

5.真空系统         1套

6.程序仪表         2件

7.PLC              1套

8.触摸屏           1套

9.复合真空机       1台

10.测温热电偶       2只

11.红外测温仪      1台

12.坩埚             1套

13.电气控制系统     1套

14.产品说明书合格证   1份