RPX-210, RPX-540-美国IST 原子层沉积表面改性设备 分子涂层

美国ist(integrated surface technologies)公司 repellix 原子沉积表面改性(亲水、超疏水、防水设备）

——美国ist公司为pva tepla的战略合作公司

型号：rpx-210, rpx-540, rpx-560

典型应用:

表面改性（微流控芯片管道表面改性）

mems表面抗粘合层（提高mems器件的抗摩擦性）

半导体制造和封装涂层

dna微阵列

生物兼容性改性

亲水 μ流体薄膜

疏水保护薄膜（）

提高表面粘附性

无机氧化物原子沉积

控制：

pc精密控制，形成单分子层，可设置连续或交替进行。

灵活的控制系统，允许自行设计工艺，形成特色纳米结构。

同一设备更换不同单体可完成不同工艺。

优势：

灵活的工艺步骤

自然沉积，均匀性*

重复性好

低成本

适用大批量生产

配置：

腔体大小：317.5×243.84×254 mm

运行真空度：10 torr（100℃）

腔室温度：85℃

设备大小：1016×965.2×914.4 mm

回充气体：n2 或cda (5.5 bar)

pc控制

多达32,000可编程步骤